光學(xué)相干層析成像(OCT)系統(tǒng)是斷層成像系統(tǒng),它通過圖像反射或散射出來的光來獲取被測(cè)物體橫截面或三維圖像。本文講述了光學(xué)相干層析成像(OCT)系統(tǒng)的設(shè)計(jì),并探討了如何使用OpticStudio進(jìn)行相干模擬。
光學(xué)相干層析成像(OCT)系統(tǒng)是斷層成像系統(tǒng),它通過圖像反射或散射出來的光來獲取被測(cè)物體橫截面或三維圖像。盡管光線在OCT中穿透的深度以毫米數(shù)量級(jí)計(jì)量,但OCT具有安全性和高分辨率的特征,使得OCT極典型應(yīng)用于醫(yī)學(xué)生物組織成像。
OCT的光學(xué)系統(tǒng)由邁克爾遜干涉儀構(gòu)成,在參考鏡與樣品之間的反射光相干,這一現(xiàn)象表明了從樣品不同位置深度反射或散射出來的光與參考鏡的位置有關(guān)。
本文將介紹如何在OpticStudio中模擬商用的OCT。
健康人眼的角膜和虹膜(A)以及視網(wǎng)膜組織(B)的橫截面如下圖所示。顏色深度的改變意味著反射光的強(qiáng)度改變,說明內(nèi)部材料發(fā)生變化。
一個(gè)典型的OCT系統(tǒng)如下圖。光束被均勻地分成兩束,分別進(jìn)入?yún)⒖急叟c樣品臂。其中一束光在體積樣品中疊加,從而減小掃描面積。光源是寬帶準(zhǔn)直光源,寬帶光源的選擇意味著低相干性和高精度的深度定位,從而使參考鏡與樣品之間的反射光相干。
深度掃描,也稱為縱向掃描或a掃描,用于測(cè)量反射光的強(qiáng)度,作為反射光透過樣品距離的函數(shù)。在OCT系統(tǒng)中的不同位置進(jìn)行深度掃描,這一過程通常由參考鏡完成,參考鏡完成掃描后對(duì)比樣品反射光的光程與樣品、參考鏡之間光路的光程差。
通過在X或Y方向上旋轉(zhuǎn)掃描鏡實(shí)現(xiàn)橫向、縱向或b掃描,使探測(cè)光在樣品區(qū)域上平移。
我們將從商用OCT系統(tǒng)中獲得設(shè)計(jì)規(guī)格。軸向分辨率由光源特性(相干長(zhǎng)度)決定,大約為5 μm。橫向分辨率由光束聚焦在樣品處的光斑大小決定,設(shè)置為15 μm。選用800 nm范圍內(nèi)的光以防止光在生物組織中被吸收,影響光穿透力。
OCT將干涉測(cè)量法與寬帶近紅外光結(jié)合使用。寬帶光源具有理想的分辨率,而波長(zhǎng)決定了光在樣品材料中的穿透深度。本例中,我們將使用中心波長(zhǎng)為840 nm、FWHM為60 nm的光源,軸向分辨率為5μm:
本例超發(fā)光二極管的光譜特性也可以從商用超發(fā)光二極管中獲取。在超發(fā)光二極管發(fā)光過程,選用用于生物成像的常用波長(zhǎng)和具有高分辨率的寬帶光源。我們將忽略用于光線準(zhǔn)直的光學(xué)器件,并從光線進(jìn)入干涉儀開始建模。
OpticStudio有兩種方式來定義寬帶光源,第 一種方式為在適當(dāng)范圍內(nèi),定義多個(gè)系統(tǒng)波長(zhǎng);第二種方式將相干長(zhǎng)度作為光源屬性定義。相干是OCT系統(tǒng)的必要特征,因此我們將使用“將相干長(zhǎng)度作為光源屬性定義”的方法,并允許OpticStudio通過以下方式進(jìn)行帶寬計(jì)算和采樣:
表面設(shè)置如下圖所示:
04?創(chuàng)建系統(tǒng)基本結(jié)構(gòu)
為了將相干系統(tǒng)模擬出來,并且一次能追跡多條光線,我們將使用OpticStudio非序列模型建模。在這一環(huán)節(jié)中,我們必須進(jìn)行光線追跡,同時(shí)為了解邁克爾遜干涉儀里所有反射與透射光的光路,需要勾選“Split NSC Rays”。
OCT的測(cè)試原理:使用寬帶低相干性的光源,通過邁克爾遜干涉儀產(chǎn)生干涉信號(hào),并通過干涉信號(hào)去計(jì)算樣品內(nèi)反射光的具體位置。我們將運(yùn)用自由空間光學(xué)來擺放相關(guān)器件,使用分束器將光線分束,參考鏡放置在參考臂的位置上,樣品模型放置在樣品臂的位置上。系統(tǒng)數(shù)據(jù)以及相關(guān)參數(shù)定義如下方的非序列元件編輯器所示。
通過OpticStuido創(chuàng)建兩個(gè)分束器,分別為物體2與物體3,物體類型為“多邊形物體”,它們是由45°的棱鏡組成。在物體屬性選項(xiàng)中選擇數(shù)據(jù)文件“Prism45.pob”。
為了將分束器模擬出來,兩個(gè)棱鏡需要在分光面(斜面)鍍上透過率為50%的膜層。在OpticStudio按照如下的設(shè)置定義膜層Coating_I.50,其中數(shù)字代表光透過表面的百分比。
另外,我們必須防止分束器的棱鏡移動(dòng),這會(huì)導(dǎo)致兩個(gè)棱鏡間的空氣間隙改變或分光面發(fā)生偏移,從而導(dǎo)致分束器將光線分束的結(jié)果不準(zhǔn)確。為了保證兩個(gè)棱鏡邊緣對(duì)齊,物體3需要將物體2設(shè)置為參考物體,這一設(shè)置定義了所有相對(duì)于物體2所改變的位置參數(shù),使得對(duì)物體2的任何改變都將關(guān)聯(lián)到物體3。
為了防止分束器與光源堆疊,分束器和光源之間在Z軸方向有一定的距離。分束器的兩個(gè)棱鏡的材料選用玻璃N-BK7,設(shè)置調(diào)整棱鏡尺寸的縮放因子為正數(shù),默認(rèn)值為2mm。通過參考第 一個(gè)棱鏡,就能在Z軸方向上定義第二個(gè)棱鏡位置(將棱鏡按寬度分開,是縮放因子的2倍),傾斜X(180°)。
當(dāng)光線分束后,其中一束光的傳輸路徑必須經(jīng)過掃描鏡、聚焦透鏡與樣品。本例中,我們將Z方向的光路定義為參考臂,Y方向的光路定義為樣品臂。物體4(反射鏡)的物體類型為矩形,材料為“MIRROR”,進(jìn)行橫向掃描。反射鏡的位置坐標(biāo)(0,20,20),使反射鏡略高于分束器的中心,傾斜X(45°)為橫向掃描的起點(diǎn),改變傾斜角并進(jìn)行掃描。X和Y的半寬應(yīng)該足夠大才能去獲取整體光束,此處X,Y的半寬值都設(shè)置為7.5 mm。
物體5是一個(gè)聚焦透鏡,因?yàn)闃悠诽幍墓獍叽笮Q定了橫向分辨率。本例從有效焦距為50 mm的一個(gè)簡(jiǎn)單的平凸透鏡開始,并通過優(yōu)化來找到理想聚焦點(diǎn)。將聚焦透鏡(平凸透鏡)的物體類型設(shè)置為“Standard Lens”(標(biāo)準(zhǔn)透鏡)。聚焦透鏡的坐標(biāo)(0,20,40),使聚焦透鏡與掃描鏡保持水平,并保持20mm的距離(該距離在兩者的水平位置距離中是任意的),聚焦透鏡的材料為N-BK7。參數(shù)1到參數(shù)9定義了聚焦透鏡的光焦度,半徑值為25mm,對(duì)于球面鏡而言,圓錐系數(shù)1和圓錐系數(shù)2都為0,凈孔徑1、2與邊緣孔徑1、2設(shè)置為10mm,厚度設(shè)置為5mm,對(duì)于本例的聚焦透鏡的后表面為平面,在非序列模式下,半徑2為0。
物體6為樣品,我們將從一個(gè)簡(jiǎn)單的反射面模型開始,在反射面上可能會(huì)產(chǎn)生相干反射。將反射面的物體類型設(shè)置為矩形探測(cè)器,材料為MIRROR,光在反射面上反射,我們將觀察到樣品處的光線。樣品應(yīng)與聚焦透鏡對(duì)齊,距離約為50mm(聚焦透鏡的的理想焦點(diǎn)將通過優(yōu)化找到)。光斑大小約為15μm,半寬為0.05mm、X和Y的像素?cái)?shù)為100將使我們能夠分辨出光斑。
該部分只需要一個(gè)平面參考鏡,即物體7,它可以在Z方向上調(diào)整位置以改變光程差(深度掃描)。物體7的物體類型為矩形探測(cè)器,材料為MIRROR,它的位置應(yīng)與光源和分束器的位置對(duì)齊。在“物體7上的Z位置求解”求解類型為拾取,樣品對(duì)于樣品臂y方向偏移20mm。根據(jù)系統(tǒng)找到光程差為0的位置。X,Y半寬為7.5mm,X,Y像元數(shù)為100,為系統(tǒng)提供了足夠的探測(cè)能力。
當(dāng)表面類型為反射面時(shí),非序列模式下系統(tǒng)將自動(dòng)追跡從樣品、參考鏡反射到分束器的光線。這是非序列模式相對(duì)于序列模式的主要優(yōu)勢(shì),對(duì)于序列模式,需要手動(dòng)定義才能進(jìn)行指定光線追跡。
需要一個(gè)發(fā)散透鏡來觀察邁克爾遜干涉條紋。物體8的物體類型為“Standard Lens”(標(biāo)準(zhǔn)透鏡),材料為N-BK7,坐標(biāo)(0,-20,20),收集光線(回到分束器的光線,在分束器下方) 。除半徑1為-20 mm和厚度為1 mm外,發(fā)散透鏡參數(shù)設(shè)置與聚焦透鏡參數(shù)設(shè)置一致。
物體9在發(fā)散透鏡的下方,物體類型為矩形探測(cè)器,坐標(biāo)為(0,-30,20),傾斜X(90°)使表面與光線傳輸方向正交。X、Y半寬為7mm,X、Y像元數(shù)為 100。通過輸入以上參數(shù),可以對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行模擬。
主要針對(duì)樣品的光斑尺寸進(jìn)行優(yōu)化。評(píng)價(jià)函數(shù)需要輸入兩個(gè)相關(guān)的初始操作數(shù):NSDD,設(shè)置為0,清除探測(cè)器之前的所有參數(shù)數(shù)據(jù);NSTR,設(shè)置為1,描述光線追跡。優(yōu)化光斑尺寸的操作數(shù)為NSDD,根據(jù)結(jié)果來確定像素# (均方根半徑為Pix#=-9);為了找到理想焦點(diǎn),目標(biāo)值設(shè)置為0,而權(quán)重應(yīng)該為非0。為了確保光線能到達(dá)探測(cè)器,必須再定義一個(gè)操作數(shù),當(dāng)沒有光線通過探測(cè)器時(shí),光斑尺寸將為0,即定義操作數(shù)NSDD像素#=-3,權(quán)重為0,從而結(jié)合定義一個(gè)具有目標(biāo)的操作數(shù)(OPGT),以確保光線能達(dá)到探測(cè)器。
為了找到理想的光斑大小,將聚焦透鏡參數(shù)(半徑與厚度)、探測(cè)器的位置設(shè)置為變量。優(yōu)化后的均方根半徑為10μm。焦距沒有顯著變化,大約為48.8mm,樣品在Z軸方向上移動(dòng)到90.113mm。下面顯示的是優(yōu)化前(左)和優(yōu)化后(右)的光斑大小。
時(shí)域
深度掃描基于相干門和掃描鏡位置,只有當(dāng)光程差在相干長(zhǎng)度內(nèi),在樣品與參考鏡這兩條路徑的光才會(huì)產(chǎn)生干涉信號(hào)。這就是我們使用低相干寬帶光源的原因,因?yàn)槎滔喔砷L(zhǎng)度可以讓我們能準(zhǔn)確地預(yù)測(cè)樣品中干涉信號(hào)來源的位置。通過反射光的強(qiáng)度逐個(gè)像素地重新創(chuàng)建樣品的圖像,相干門僅用作識(shí)別樣品內(nèi)反射光的位置。
我們以相干長(zhǎng)度為20mm開始模擬,因?yàn)檫@給了我們一個(gè)更大的誤差范圍,以便找到正確的反射光位置,當(dāng)找到大致位置后就能縮短光源的相干長(zhǎng)度。
此外,我們將使用單個(gè)表面來代表樣品。類似于樣品中次光源發(fā)光,意味著參考鏡將只改變光路長(zhǎng)度。為了確保光程差在相干長(zhǎng)度內(nèi),在調(diào)整參考鏡位置時(shí),觀察樣品內(nèi)反射點(diǎn)的位置變化。
通過使用探測(cè)器查看器中的“Coherent Irradiance”(相干輻照度)來分析這兩條光路之間的干涉信號(hào)強(qiáng)度。這一步操作可在探測(cè)器查看器的“設(shè)置”中完成,之前的探測(cè)器查看器曾使用非相干輻照度。在之后的光線追跡將追蹤每條光線的相位,以便分別添加用于相干計(jì)算的復(fù)數(shù)部分。
當(dāng)大量光線進(jìn)入系統(tǒng)時(shí),可清楚地辨別干涉條紋。對(duì)于20mm的相干長(zhǎng)度,我們至少需要幾百萬條光線,第 一個(gè)示例使用了1500萬條光線;更短的相干長(zhǎng)度需要更多的光線。樣品在Z軸方向上的位置為90.113mm,通過光線追跡發(fā)現(xiàn)干涉只發(fā)生在小于參考鏡位置125.113mm的范圍內(nèi)。已知相干長(zhǎng)度為20mm,相干長(zhǎng)度參考上限應(yīng)與下限相差10mm。在本例中,我們可以看到干涉條紋在參考鏡位置115.113之外消失。將參考鏡放置在這些極限值之間會(huì)生成亮條紋。下面幾張圖顯示的是中心和極限位置下的的光線追跡干涉結(jié)果圖。
我們將在近似極限之間的中點(diǎn)處找到光程差為零(OPD=0)的位置,即121.113 mm。隨著相干門內(nèi)的參考鏡位置范圍的減小,縮短相干長(zhǎng)度直到光斑大小為12μm,當(dāng)在反射點(diǎn)位置時(shí)便會(huì)逐漸提高測(cè)試精度。下面顯示的是焦距為5mm時(shí)的干涉圖,需要8000萬條光線才能看到干涉條紋。
掃描光源
當(dāng)前系統(tǒng)可以通過傅立葉變換進(jìn)行計(jì)算。光譜儀或掃描光源的波長(zhǎng)可用于觀察光程差對(duì)調(diào)制光譜的影響。若系統(tǒng)選用光譜儀,則需要在系統(tǒng)中增加設(shè)計(jì)工作,而掃描光源可以通過簡(jiǎn)單地更改光源參數(shù)來模擬。將相干長(zhǎng)度設(shè)置為0并定義單色光波長(zhǎng),我們可以在相同的范圍內(nèi)掃描窄帶光源。作為波長(zhǎng)的調(diào)制函數(shù),我們將觀察到相干輻照度的峰輻照度值,且振蕩周期與樣品內(nèi)參考鏡和反射點(diǎn)之間的光程差有關(guān)。將樣品創(chuàng)建為單個(gè)表面,我們將只看到一個(gè)調(diào)制頻率,體積樣品疊加在每個(gè)反射點(diǎn)的位置。對(duì)信號(hào)進(jìn)行傅立葉變換,作為位置的函數(shù),并對(duì)信號(hào)進(jìn)行線性掃描,該函數(shù)中的極大值對(duì)應(yīng)于樣品中的強(qiáng)反射點(diǎn)。
掃描光源(SS-OCT)使用一個(gè)固定的參考鏡,光譜輸出的調(diào)制程度決定光程差。對(duì)于我們的樣品表面,意味著在一個(gè)參考位置上進(jìn)行波長(zhǎng)掃描時(shí),得到的信息只包含一個(gè)光程差。對(duì)于體積樣品,樣品中的每個(gè)次光源發(fā)光都會(huì)對(duì)帶來光程差。如前面所述,使用單個(gè)表面代表樣品,以便我們使用一個(gè)光程差檢測(cè)光譜振蕩而不是使用樣品中次光源發(fā)出的光所對(duì)應(yīng)的多個(gè)光程差來進(jìn)行檢測(cè),并且為了獲得高分辨率,我們需要使用小波長(zhǎng)步長(zhǎng)。
為了在OpticStudio中觀察這一影響,我們將參考鏡放在小光程差的位置(在Z軸方向上的位置為124.113mm),并通過調(diào)整波長(zhǎng)大小來觀察振蕩。使用更大的光程差(參考鏡在Z軸125.113 mm位置處),將導(dǎo)致更快的振蕩。下面幾幅圖顯示光程差大約為2mm時(shí)相干功率的變化圖。
2023R2 發(fā)布 | Zemax OpticStudio
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