新聞動態(tài)

News Center

設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分

發(fā)布日期:
2023-06-02

瀏覽次數(shù):


本文為使用OpticStudio工具設(shè)計(jì)優(yōu)化HUD抬頭顯示器系統(tǒng)的第二部分,主要包含演示了如何使用OpticStudio工具設(shè)計(jì)分析抬頭顯示器(HUD)性能,即全視場像差(FFA)和NSC矢高圖。


上篇文章中,我們主要介紹了如何以逆向方式對于HUD系統(tǒng)進(jìn)行建模,下一步我們將根據(jù)分析系統(tǒng)的初始性能,并結(jié)合具體設(shè)計(jì)指標(biāo)了解如何對系統(tǒng)進(jìn)行控制與優(yōu)化。



初始性能


增加系統(tǒng)像差的因素是風(fēng)擋玻璃,我們可以對于像差進(jìn)行分析。


該系統(tǒng)可以簡化為來自無窮遠(yuǎn)處(眼睛)的光,并被風(fēng)擋玻璃反射;反射后,點(diǎn)列圖可以告訴我們在“真實(shí)”風(fēng)擋玻璃和理想風(fēng)擋玻璃(平面鏡)的情況下的光線角度。


以下是定義文件的不同步驟:

● 忽略表面6至11;

●?將視場類型轉(zhuǎn)換為角度;

●?將“物面厚度”值設(shè)置為“無限”;

●?在風(fēng)擋玻璃后面添加一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)表面,作為理想平面風(fēng)擋玻璃的模型。將材質(zhì)設(shè)置為“MIRROR”。在“Surface 4?Properties”的“Aperture”下,從“Surface 3”中拾取“Aperture”;

●?創(chuàng)建兩種多重結(jié)構(gòu):一種帶有“真正”風(fēng)擋玻璃,另一種帶有理想的平面反射風(fēng)擋玻璃(表面3和4);

●?勾選System Explorer…Aperture下的Afocal Image Space,設(shè)置單位為角度。


這些修改可以在“HUD_Step1_windshield_aberration.zar” 文件中找到:


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


要分析風(fēng)擋玻璃引入的像差,請單擊?Analyze...Aberrations...Full Field Aberration。塞德爾像差工具在此不適用,因?yàn)樗幻枋鲂D(zhuǎn)對稱系統(tǒng)中的三階像差。


全視場像差分析計(jì)算波前的Zernike分解項(xiàng),并顯示整個(gè)視場的Zernike系數(shù)。


整個(gè)視場由紅色方框的設(shè)置定義:


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分

以下是這些視場點(diǎn)的表示:以下是這些視場點(diǎn)的表示:


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


對于每個(gè)視場點(diǎn),軟件將波前擬合為一系列Zernike標(biāo)準(zhǔn)多項(xiàng)式,就像在Analyze…Wavefront…Zernike Standard Coefficients下所做的那樣。以下設(shè)置定義了需要顯示的Zernike像差項(xiàng):


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


在像差下,根據(jù)Zernike標(biāo)準(zhǔn)項(xiàng)5(Z5)和Zernike標(biāo)準(zhǔn)項(xiàng)6(Z6)計(jì)算初級像散:


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


初級像散定義為:

●?Magnitude = sqrt (Z5^2 + Z6^2)

●?Angle = (1/2)*atan2(y = -Z5 , x = -Z6)

這里,atan2是C語言函數(shù),它給出了(y/x)的反正切。


如果“顯示”設(shè)置為“圖標(biāo)”,則線的長度將給出大小,方向?qū)⒔o出角度。


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


在框架的下方是所選像差的顯示范圍,這里則為全視場的初級像散。


這個(gè)系統(tǒng)的結(jié)果為:

1.離焦:174.4 waves

2.初級像散:平均為80.2 waves


可以看出,該系統(tǒng)一開始受到風(fēng)擋玻璃帶來的像散限制,光束也會被風(fēng)擋玻璃稍微聚焦。但是離焦值不是問題,因?yàn)樵O(shè)計(jì)會將光束聚焦到LCD顯示器上。HUD的設(shè)計(jì)將從校正像散開始。



建立評價(jià)函數(shù)


回到我們的原始文件“HUD_Step1_StartingPoint.zar”,自由曲面反射鏡現(xiàn)在可以進(jìn)行優(yōu)化,以校正風(fēng)擋玻璃引入的像差。首先,“優(yōu)化”下的“快速調(diào)整”工具可以用來使我們的自由曲面鏡成為球面鏡。這是一個(gè)很好的起點(diǎn)。


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


建立一個(gè)默認(rèn)的評價(jià)函數(shù):

可以構(gòu)建默認(rèn)的評價(jià)函數(shù)來優(yōu)化極小的光斑尺寸(RMS點(diǎn))。該系統(tǒng)包含孔徑,因此將使用矩形陣列方式對光瞳進(jìn)行采樣。


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


這里可以使用全視場像差來檢查視場采樣。視場上像差的快速變化可能意味著需要更多的視場點(diǎn)。


然后,可以手動添加其他指標(biāo),其中手動添加的操作數(shù)位于評價(jià)函數(shù)的頂部:


●?放大率:一個(gè)規(guī)格是關(guān)于放大率??梢蕴砑覴EA*(真實(shí)光線坐標(biāo))操作數(shù),以檢查LCD顯示器上光線X和Y的位置。DIVI操作數(shù)可用于計(jì)算放大率(像面上的主光線高度與物面上的比率)。將在這些DIVI操作數(shù)上放置10的權(quán)重因子。


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


●?畸變:后面一個(gè)規(guī)格是關(guān)于畸變。它必須低于2%。

像畸變這樣的近軸計(jì)算并不總是能很好地處理具有坐標(biāo)間斷的非對稱系統(tǒng)。使用畸變操作數(shù)時(shí),請始終驗(yàn)證結(jié)果是否合理??梢允褂肅ENX和CENY對視場的四個(gè)視場角(視場2至5)手動檢查和/或計(jì)算質(zhì)心的位置。


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


評價(jià)函數(shù)現(xiàn)已準(zhǔn)備就緒。在優(yōu)化之前,可以將自由曲面反射鏡從標(biāo)準(zhǔn)面更改為自由曲面;這里是一個(gè)Zernike標(biāo)準(zhǔn)矢高曲面,有11項(xiàng)。


Zernike多項(xiàng)式非常適合優(yōu)化,但它們可能需要轉(zhuǎn)換回標(biāo)準(zhǔn)多項(xiàng)式,如用于制造的擴(kuò)展多項(xiàng)式。


Zernike曲面的歸一化半徑設(shè)置為大于半直徑的固定值。在優(yōu)化過程中,如果該半徑不是固定的,則每次更新時(shí),都會在優(yōu)化期間在評價(jià)函數(shù)上產(chǎn)生一些變動。


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


優(yōu)化之前的文件稱為“HUD_Step1_MF_before_optim.zar”。


●?變量:

Z1是Piston項(xiàng);它不會被使用。

Z2和Z3是傾斜項(xiàng)。LCD顯示器等元件的不同位置是固定的,因此不會使用傾斜項(xiàng)。

系統(tǒng)包含兩個(gè)變量:后焦距的長度,自由曲面反射鏡的曲率半徑。

在進(jìn)行第 一次局部優(yōu)化后,可以檢查全視場像差:


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


整個(gè)視場的平均值:


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


Z4是離焦/場曲,并設(shè)置為變量。

Z5和Z6是主初級像散,并且設(shè)置為變量。

優(yōu)化后,整個(gè)視場的平均值為:


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


Z7和Z8是初級彗差,并且設(shè)置為變量。

Z9和Z10是彗差,并且被設(shè)置為變量。

Z11是平衡的初級球差,并且被設(shè)置為變量。

然后是一分鐘的Hammer優(yōu)化:


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分

優(yōu)化后的文件稱為“HUD_Step1_MF_after_opti.zar”。



優(yōu)化結(jié)果


優(yōu)化的結(jié)果可以看出,該系統(tǒng)尚未翻轉(zhuǎn),因此性能不是“真實(shí)”性能,而是“翻轉(zhuǎn)”性能。


●?光斑大小(RMS):光斑的RMS半徑低于200微米。它沒有提供太多信息;當(dāng)系統(tǒng)翻轉(zhuǎn)時(shí),檢查角度大小將更令人感興趣。

●?像散與彗差:可以再次檢查全視場像差,以查看優(yōu)化是否降低了初級像散。除了像散之外,極有可能影響HUD成像質(zhì)量的Zernike項(xiàng)是彗差和球差。用于以下結(jié)果的視場是總視場,它表示駕駛員看到的極大角度范圍,允許頭部在HUD眼盒內(nèi)垂直和水平移動。它還顯示了兩只眼睛所看到的視差。


整個(gè)視場的平均值為:


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


像散的范圍從80減少到11 waves。下圖使用的是相對比例(顯示設(shè)置),從絕 對值中減去平均值。它可以更好地了解整個(gè)視場的像差變化:


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分

設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分



●?畸變:略高于2%


設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分


相關(guān)閱讀

設(shè)計(jì)抬頭顯示器時(shí)要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第 一部分

探究 Zemax OpticStudio偏振分析功能

Zemax Lumerical Speos 聯(lián)合實(shí)現(xiàn)衍射光波導(dǎo)AR系統(tǒng)設(shè)計(jì)仿真

如何利用 Zemax OpticStudio 模擬 AR 系統(tǒng)中的全息光波導(dǎo)
在 Zemax OpticStudio 中建立增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)頭戴式顯示器

如何在Zemax OpticStudio用戶自定義表面真實(shí)建模衍射式人工晶狀體透鏡

如何使用 Zemax OpticStudio 進(jìn)行雜散光分析

如何運(yùn)用OpticStudio對中頻誤差進(jìn)行評估和公差分析


相關(guān)推薦

Zemax手機(jī)鏡頭設(shè)計(jì) | 第四部分:結(jié)合 LS-DYNA 進(jìn)行沖擊碰撞性能分析
Ansys Optics本文是系列文章的第四部分,作為延展。該系列文章將...
LS-DYNA | 如何查找和消除初始穿透?
01.摘要本文介紹了何為交叉和穿透,和幾種不同的穿透類型。注:尤其不要混...
Maxwell如何將傅里葉變換結(jié)果參數(shù)化
電機(jī)的優(yōu)化設(shè)計(jì)問題永遠(yuǎn)也繞不開對諧波的優(yōu)化,雖然Maxwell后處理中自...
LS-DYNA隱式計(jì)算使用技巧 | 檢查清單
01.摘要本文介紹了LS-DYNA隱式計(jì)算的一些技巧,即在隱式求解前的一...