在當前MEMS設計領域，工具集成度比以往增加了很多。為了應對市場競爭，用戶需要一個已經(jīng)成功證明能夠加速商業(yè)項目設計周期的工具集。Tanner MEMS流程不只把MEMS器件與相應模擬/數(shù)?；旌想娐吩O計的集成變得簡單，同時也能夠幫助用戶改善MEMS器件的設計。因此，它能夠減少培訓時間，縮短設計周期。
Tanner MEMS設計流程的核心是L-Edit。L-Edit是一款MEMS版圖編輯工具，可以進行曲線多邊形和全角運算操作。相比于工程師使用的其他CAD工具，L-Edit的版圖規(guī)劃更加清晰。用戶可以快速的畫出所需的圖形，并方便地檢查多層版圖組合之間的重疊和相互關聯(lián)。利用L-Edit例如強大的曲線編輯、實時DRC檢查、布爾運算、對象捕捉與對準等方面的優(yōu)勢，用戶可以更有效的完成設計任務，并節(jié)約時間與成本。與此同時，在任意形狀與曲率的多邊形復雜運算和派生層生成操作上，L-Edit的精度也可以做的非常高。這些操作包含AND，OR，XOR，Subtract，Grow和Shrink等。它們允許用戶根據(jù)簡單的形狀產(chǎn)生復雜的MEMS特殊結構。如下圖所示：
Tanner MEMS的特點及優(yōu)勢
- 同一環(huán)境下完整的IC和MEMS設計解決方案
- 25年的MEMS設計經(jīng)驗
- 從版圖生成3D MEMS模型
- 支持導入和導出GDS、OASIS、DXF、Gerber 和 CIF 文件格式
- L-Edit提供可視化連接的節(jié)點高亮，可以快速查找和定位DRC和LVS問題
- 高度可編程的MEMS版圖設計工具，如曲線多邊形、多角操作等
- 參數(shù)化派生層產(chǎn)生工具，可實現(xiàn)特殊MEMS結構設計
- 完整可視化的多圖層幾何圖形設計- 利用工具欄便捷地生成、擺放和對準圖形，執(zhí)行任意角度旋轉、翻轉、合并、咬和切片操作，指定一個參考點進行編輯操作，如對象旋轉、翻轉、移動，或使用基點位置進行實例放置等
- 針對MEMS工藝的DRC檢查
- 支持附帶邊界重構的DXF數(shù)據(jù)格式導入導出
- 支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 進行硅光器件設計
- Soft MEMS工具選項
>?高級3D分析工具：機械，熱，聲，電，靜電，磁性和流體分析
>?系統(tǒng)級仿真，包含IC和MEMS協(xié)同仿真
>?根據(jù)3D分析結果，自動生成MEMS器件行為模型