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Lumerical 光子集成電路之PN 耗盡型移相器仿真工作流

發(fā)布日期:
2023-03-30

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01 說明



本文旨在介紹Ansys Lumerical針對有源光子集成電路中PN耗盡型移相器的仿真分析方法。通過FDE和CHARGE求解器模擬并計(jì)算移相器的性能指標(biāo)(如電容、有效折射率擾動和損耗等),并創(chuàng)建用于INTERCONNECT的緊湊模型,然后將其表征到INTERCONNECT的測試電路中實(shí)現(xiàn),模擬反向偏置電壓對電路中信號相移的影響。


Lumerical 光子集成電路之PN 耗盡型移相器仿真工作流



02 綜述



Lumerical 光子集成電路之PN 耗盡型移相器仿真工作流


這里假設(shè)移相器的結(jié)構(gòu)沿光傳播方向是均勻的,因此僅模擬器件的橫截面。我們將演示每個(gè)部分的仿真及結(jié)果。


步驟1:電學(xué)模擬

利用CHARGE求解器對移相器組件進(jìn)行電學(xué)模擬,獲得電荷載流子的空間分布作為偏置電壓的函數(shù),并將電荷分布數(shù)據(jù)導(dǎo)出為charge.mat文件。根據(jù)載流子濃度,我們也可以估計(jì)器件電容。


施加于器件的偏置電壓為0V(左)和-4V(右)時(shí),移相器橫截面的電子分布曲線如下圖所示:


Lumerical 光子集成電路之PN 耗盡型移相器仿真工作流


由圖可知,在沒有施加偏置電壓情況下,波導(dǎo)橫截面上的電荷分布是對稱的。通過施加足夠強(qiáng)的反向偏壓,由于pn結(jié)上耗盡區(qū)的加寬,電子被部分推出波導(dǎo)(向左),導(dǎo)致波導(dǎo)上電荷分布發(fā)生相當(dāng)顯著的變化。


電荷分布和耗盡區(qū)寬度的變化將改變結(jié)電容,器件的C-V曲線如下圖所示:


Lumerical 光子集成電路之PN 耗盡型移相器仿真工作流


由圖可知,電子和空穴對結(jié)電容的貢獻(xiàn)非常相似,且由于耗盡區(qū)加寬,隨著施加更高的反向偏置電壓,二者對結(jié)電容的貢獻(xiàn)降低。電容的大小會影響移相器的工作速度(帶寬),因此可以在電路模型中考慮這種影響。


步驟2:光學(xué)模擬

利用MODE求解器中的FDE模塊進(jìn)行光學(xué)模擬,從電學(xué)模擬獲得的變化的載流子濃度改變了波導(dǎo)的折射率,所以波導(dǎo)的有效折射率與偏置電壓有關(guān)。將第 一步得到的電荷分布數(shù)據(jù)charge.mat加載到FDE求解器中,這里需要兩個(gè)模擬來表征波導(dǎo)。


  • 偏置電壓設(shè)置為0,使用頻率掃描獲得波導(dǎo)在0偏壓的有效折射率關(guān)于頻率的函數(shù),波導(dǎo)數(shù)據(jù)導(dǎo)出為ps_active_0.ldf。

  • 使用Sweep進(jìn)行電壓參數(shù)掃描,計(jì)算中心波長處的有效折射率和損耗隨偏置電壓的變化,數(shù)據(jù)導(dǎo)出為neff_V.dat。


有效折射率、損耗和偏置電壓的關(guān)系曲線以及模場分布如下圖所示:


Lumerical 光子集成電路之PN 耗盡型移相器仿真工作流


由圖可知,較大的反向偏置引起較高的有效折射率擾動和較低的損耗。這是因?yàn)槭┘恿朔聪蚱珘汉?,波?dǎo)內(nèi)自由載流子的耗盡會減少沿波導(dǎo)方向的光吸收量,較高的折射率擾動可以減小移相器實(shí)現(xiàn)π相移所需的長度。在-4V偏壓下,移相器在1550 nm下的TE模被很好地限制在波導(dǎo)內(nèi),與波導(dǎo)內(nèi)的載流子分布顯著重疊,這可以顯著地影響模式的有效折射率。


步驟3:電路模擬

將步驟2中的仿真結(jié)果加載到INTERCONNECT電路中的相關(guān)元件中,利用INTERCONNECT測試移相器元件在簡單電路中的性能,使用光網(wǎng)絡(luò)分析儀計(jì)算器件的頻域響應(yīng)。


Lumerical 光子集成電路之PN 耗盡型移相器仿真工作流


不同偏置電壓下的相移曲線如下圖所示:


Lumerical 光子集成電路之PN 耗盡型移相器仿真工作流



由圖可知,隨著偏置電壓的變化,相位發(fā)生了變化。仿真結(jié)果表明,對于 500 微米的長度,在 4 伏偏置電壓下相移約為 0.2 弧度,這表明移相器的 Vπ.Lπ 品質(zhì)因數(shù)約為 0.03 Vm。



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