對(duì)于表面不規(guī)則度的公差分析是鏡頭設(shè)計(jì)過(guò)程中保證生產(chǎn)加工得到的實(shí)際光學(xué)元件能夠達(dá)到預(yù)期性能的重要環(huán)節(jié)。可能引起光學(xué)性能變化的因素包括但不限于光學(xué)表面的加工誤差、所用模具的加工誤差、注塑造成的不規(guī)則度、光學(xué)元件與傳感器間的校準(zhǔn)誤差、光學(xué)表面的粗糙度誤差以及厚度誤差。
將這些不規(guī)則度參數(shù)化將有利于公差分析,公差操作數(shù) TEZI 就是一個(gè)很好的例子。TEZI 操作數(shù)使用 Zernike 多項(xiàng)式來(lái)表示不規(guī)則度,一些低頻表面誤差可以用該參數(shù)化公式來(lái)評(píng)價(jià)公差。并且非常高頻的表面誤差將引起光束產(chǎn)生大角度散射,光學(xué)系統(tǒng)中可以將這部分作為能量損耗忽略不計(jì)。然而,介于這兩者之間的中頻表面誤差,參數(shù)化建模就存在一些難度,不僅在于難以使用多項(xiàng)式進(jìn)行表示,而且在于不能作為系統(tǒng)損耗而忽略。
本文我們以以金剛石車削為例,解釋為什么需要一個(gè)中頻誤差的分析模型。我們定義了一個(gè)表達(dá)式來(lái)建模這種不規(guī)則度,并在示例中使用點(diǎn)列圖和公差分析進(jìn)行展示。結(jié)尾處,說(shuō)明使用這種模型時(shí)應(yīng)注意的限制條件。
在光學(xué)表面制造時(shí),通常用表面不規(guī)則度或RMS誤差的形式來(lái)衡量一個(gè)表面與一個(gè)完美標(biāo)準(zhǔn)表面之間的差異。例如,在632.8 nm的He-Ne激光測(cè)試下,一個(gè)成品透鏡或反射鏡的表面不規(guī)則度大概為0.1λRMS。再以定制透鏡為例,如零位檢驗(yàn)中使用的透鏡,表面不規(guī)則度大概為0.01 λRMS。
空間頻率分為不同的頻域:
如果空間頻率高,類似于表面粗糙度,我們可以將其考慮為光學(xué)系統(tǒng)的損耗
如果空間頻率低,對(duì)于低頻部分我們可以用如?Zernike?多項(xiàng)式等方法表示其形狀變化
當(dāng)空間頻率高至無(wú)法使用多項(xiàng)式輕松定義(孔徑中包含10個(gè)周期以上[2])或空間頻率低至其造成的影響不能忽略時(shí)(相對(duì)于波長(zhǎng)的波紋周期大于從給定的表面到像面光路的1/10[2,3]),我們統(tǒng)稱為中頻部分。
這些中頻誤差可能導(dǎo)致系統(tǒng)分辨率降低、產(chǎn)生雜散光、降低照明系統(tǒng)均勻性等。因此在繪制圖紙或訂購(gòu)零件之前,這些誤差應(yīng)體現(xiàn)在光學(xué)元件公差分析中。如果是專門定制的零件,與制造商結(jié)合空間頻率詳細(xì)討論表面不規(guī)則度形式是至關(guān)重要的,制造商可能會(huì)提供類似零件的性能數(shù)據(jù)或者提供一個(gè)較接近的不規(guī)則度結(jié)果預(yù)測(cè)。
通常情況下,不規(guī)則度的形式是未知的。如果是常規(guī)拋光,那么假定不規(guī)則度會(huì)引起低階像差(如光焦度和像散)比較保險(xiǎn),并可以在OpticStudio中使用多種不同方法模擬這種不規(guī)則度。然而,與傳統(tǒng)的表面加工不同,金剛石車削可以作為一個(gè)特別的案列,需要預(yù)測(cè)零件中的中頻至高頻旋轉(zhuǎn)對(duì)稱波紋。
金剛石車削是以金剛石為切削工具的車削方法,廣泛應(yīng)用于從晶體、金屬、丙烯酸等材料的高質(zhì)量非球面光學(xué)元件加工中,塑料光學(xué)元件也通常使用金剛石車削加工得到的模具來(lái)注塑成型。它是一種用鑲金剛石刀頭的旋轉(zhuǎn)車刀對(duì)精密元件進(jìn)行機(jī)械加工的過(guò)程,根據(jù)加工工藝的不同可以產(chǎn)生從P-V深度為0.1微米的中高頻誤差或幾個(gè)微米的低頻誤差。常見(jiàn)相關(guān)術(shù)語(yǔ)為“單點(diǎn)金剛石車削 (SPDT) ”。金剛石車削可以獲得高的反射亮度,因此不需要額外的拋光或拋光。然而,金剛石刀頭的軌跡會(huì)在零件局部留下一定頻率的波紋。
在OpticStudio或光學(xué)系統(tǒng)中,有多種方法可能用于表達(dá)不規(guī)則度:
Zernike?項(xiàng)模擬表面不規(guī)則度
網(wǎng)格數(shù)據(jù)表示表面不規(guī)則度
利用擴(kuò)展多項(xiàng)式或切比雪夫多項(xiàng)式得到的三維誤差對(duì)加工表面的輪廓數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合
擴(kuò)展奇次非球面可以擬合旋轉(zhuǎn)對(duì)稱測(cè)量數(shù)據(jù)
多項(xiàng)式的參數(shù)擬合在高頻上往往表現(xiàn)不佳,因?yàn)楸砻嫔喜y的數(shù)量取決于參數(shù)方程中多項(xiàng)式的數(shù)量。隨著高頻誤差的增加,僅依靠多項(xiàng)式擬合可能會(huì)變得不準(zhǔn)確。此外,當(dāng)使用過(guò)多多項(xiàng)式或者網(wǎng)格矢高點(diǎn)時(shí),將不存在一個(gè)像蒙特卡羅那樣的實(shí)用公差統(tǒng)計(jì)分析方法來(lái)分析它們可能包含的各種不規(guī)則度。
我們可以從加工過(guò)程中預(yù)測(cè)金剛石車削引起的中頻旋轉(zhuǎn)對(duì)稱不規(guī)則度[3]。本文我們提出一種將多個(gè)表面組合起來(lái),以形成一個(gè)用戶自定義表面的方法,來(lái)完成諸如公差分析這類需要改變參數(shù)的任務(wù)。
表達(dá)式如下所示:
上述表達(dá)式包含三個(gè)部分,從左至右分別是:偶次非球面部分,Zernike部分,周期矢高部分。其中,Zernike部分與?Zernike Standard矢高面型完全相同,使用的是?Zernike?多項(xiàng)式。Zernike?多項(xiàng)式為單位圓環(huán)上一系列正交的多項(xiàng)式。周期性部分是以一個(gè)固定振幅和頻率疊加到表面上的矢高值,其形式與OpticStudio?內(nèi)置的“us_eaperiodic.dll”?相同。中頻表達(dá)式可以看做是?Zernike Standard?矢高疊加上一個(gè)周期性變化的一種變體,其中:
z?是表面矢高
r?是以透鏡單位為單位的極坐標(biāo)矢徑長(zhǎng)度
c?是曲率
k?是圓錐系數(shù)
αi?第i個(gè)非球面的稀疏
N?是?Zernike?系數(shù)的個(gè)數(shù)
Ai?第?i?個(gè)?Zernike Standard?多項(xiàng)式的系數(shù)
ρ?是光線歸一化徑向坐標(biāo)
φ?是光線角向坐標(biāo)
A?是周期項(xiàng)振幅
ω0?是周期項(xiàng)頻率(單位是長(zhǎng)度單位的倒數(shù))
φ0?是相位偏移,如鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中采用角度制輸入,但是計(jì)算時(shí)轉(zhuǎn)換為弧度制
為了描述中頻表面的建模應(yīng)用,我們將使用附件中的'SpatialFrequency_implementation.zar'文件作為示例,或者也可以提取其中的“us zernike+msf.dll“文件,并將其保存在{Zemax}\documents\Zemax\DLL\Surfaces中的文檔文件夾中。
讓我們來(lái)查看中頻表面的設(shè)置:首先,像其他所有面型一樣,我們需要打開(kāi)表面屬性,將表面類型改為用戶自定義,并選擇 “us\u zernike+msf.dll'。
DLL加載到表面上后,我們就可以看到我們所需的參數(shù)。如下圖所示,非球面項(xiàng)以16階結(jié)束,然后是周期性徑向矢高的三個(gè)參數(shù) A、w0、phi0。Zernike參數(shù)疊加周期性矢高,就完成了用戶定義表面的定義。
由于我們的用戶定義曲面“us_zernike+msf.dll”是從Zernike Standard 矢高面型和另一個(gè)用戶定義曲面“us_eaperiodic.dll”派生的,因此我們可以先研究一下它們,再比較一下我們的新面型有什么不同。
首先,讓我們比較一下'us_eaperiodic.dll'和我們的中頻面 'us_zernike+msf.dll',讓二者使用相同的設(shè)置,具體采用:
振幅 A = 0.01mm
頻率 w0 =1 cycle/mm
相位 φ0 = 0.01 degrees
我們看到,左側(cè)的中頻曲面“us_zernike+msf.dll”(以藍(lán)色突出顯示),右側(cè)的周期曲面“us_eaperiodic.dll”(以橙色突出顯示)具有相同的曲面矢高輪廓。
同樣,讓我們對(duì)比一下 Zernike Standard 矢高曲面和我們的中頻面“us_Zernike+msf.dll”有何異同。我們將使兩個(gè)曲面在其設(shè)置中完全相同,并檢查與 Zernike 項(xiàng)的一致性。具體設(shè)置為:
振幅 A = 0.01mm
頻率 w0 =1 cycle/mm
相位 φ0 = 0.01 degrees
Zernike X 偏心 = 0.2
Zernike Y 偏心 = -0.1
Zernike 1 = 1.00E-003
Zernike 2 = -4.00E-003
Zernike 3 = -2.00E-003
Zernike 4 = 1.00E-003
Zernike 5 = 5.00E-004
Zernike 6 = 1.00E-004
Zernike 7 = 2.00E-003
Zernike 8 = 1.00E-003
Zernike 9 = -5.00E-003
?Zernike 10 = 1.00E-003
我們看到,左側(cè)的中頻曲面“us_zernike+msf.dll”(以藍(lán)色突出顯示)和右側(cè)的 Zernike Standard 矢高曲面(以橙色突出顯示)具有相同的曲面矢高輪廓。
所以,我們可以放心大膽地假設(shè):中頻曲面同時(shí)具有周期曲面和Zernike多項(xiàng)式的性質(zhì),當(dāng)然還有標(biāo)準(zhǔn)的非球面輪廓。下面顯示了具有Zernike多項(xiàng)式不規(guī)則度和周期性波紋狀不規(guī)則度的曲面的示例,以供說(shuō)明。
編寫和編譯DLL等內(nèi)容不在本文的討論范圍之內(nèi),但您可以參閱 “如何編寫用戶自定義DLL”文章獲取更多信息。
https://support.zemax.com/hc/zh-cn/articles/1500005577602
本文使用的DLL已在附件中提供。
簡(jiǎn)單周期面“us_eaperiodic.dll”及其源代碼可以在文件夾{Zemax}\Documents\Zemax\DLL\Surfaces中找到,這是OpticsStudio安裝時(shí)就自帶的表面。
應(yīng)用示例 1: 非球面單透鏡點(diǎn)列圖
此示例用于觀察中頻曲面的點(diǎn)列圖,我們將使用本文附件中的“spatial frequency_spot diagrams.zar”文件。
設(shè)計(jì)目標(biāo)為物高 5mm,物距 100mm,后焦 160mm的非球面透鏡,分別采用三個(gè)表面:
1.一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)面
2.一個(gè) Zernike Standard 矢高面
3.使用 'us_zernike+msf.dll' 建立的中頻面。其中Zernike Standard 矢高面和中頻面參數(shù)相同,具體為:
振幅 = 5.00E-004mm
頻率 w0 =1 cycle/mm
相位 φ0 = 0.00 degrees
Zernike X 偏心 = 0.2
Zernike Y 偏心= -0.1
Zernike 1 = 1.00E-003
Zernike 2 = -4.00E-003
Zernike 3 = -2.00E-003
Zernike 4 = 1.00E-003
Zernike 5 = 5.00E-004
Zernike 6 = 1.00E-004
Zernike 7 = 2.00E-003
Zernike 8 = 1.00E-003
Zernike 9 = -5.00E-003
Zernike 10 = 1.00E-003
從光線出射端測(cè)試,為了方便觀測(cè),中頻面放在距離像面40 mm的位置:
我們可以看到非常經(jīng)典的旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的標(biāo)準(zhǔn)面光斑輪廓。Zernike Standard 矢高面由于Zernike多項(xiàng)式項(xiàng)的存在,顯示出輕微變形的光斑輪廓。中頻曲面具有相同的Zernike多項(xiàng)式參數(shù),此外還有周期參數(shù),表現(xiàn)為光斑中的圓環(huán)。
在像面,我們用下面的結(jié)構(gòu)矩陣點(diǎn)列圖 (Configuration Matrix Spot Diagram) 來(lái)說(shuō)明這一點(diǎn)。結(jié)構(gòu)1為標(biāo)準(zhǔn)面,結(jié)構(gòu)2為 Zernike Standard 矢高面,結(jié)構(gòu)3為中頻曲面。
標(biāo)準(zhǔn)表面沒(méi)有不規(guī)則度,它也將作為我們的參考標(biāo)準(zhǔn)。Zernike Standard 矢高面稍微有些變形。中頻曲面大體上與 Zernike Standard 矢高面相同,但由于曲面上形成的波紋形狀,產(chǎn)生了相對(duì)于 Zernike 光斑輪廓不同的周圍散射光線。我們可以預(yù)期這樣的鏡頭制造時(shí)會(huì)有部分鏡頭會(huì)因光線改變了預(yù)定路徑而不符合設(shè)計(jì)的表面規(guī)定。
此示例用于觀察天塞物鏡中頻表面的公差,我們將使用文章附件中的“spacealfrequency_tol.zar”文件。
我們使用的是Paul Rudolph (USP721240)[4] 的經(jīng)典天塞鏡頭設(shè)計(jì),系統(tǒng)的第 一個(gè)表面上為中空間頻率表面(橙色突出顯示)。
以下圖所示的參數(shù)設(shè)置公差向?qū)в糜诠罘治觯?/span>
在OpticStudio中,TEZI公差操作數(shù)允許對(duì)具有軸上孔徑的標(biāo)準(zhǔn)面、非球面或環(huán)形面表面的不規(guī)則性進(jìn)行自動(dòng)公差擾動(dòng),其他表面類型則不允許使用?TEZI。但我們可以仍使用?TPAR?來(lái)擾動(dòng)曲面的參數(shù),多邊形物體和CAD文件(如STEP和IGES文件)則無(wú)法進(jìn)行擾動(dòng)。
設(shè)置參數(shù)為:
振幅= 5.00E-004mm
頻率?w0?=1 cycle/mm
相位?φ0?= 0.00 degrees
Zernike X?偏心?= 0.2
Zernike Y?偏心?= -0.1
Zernike 1 = 1.00E-003
Zernike 2 = -4.00E-003
Zernike 3 = -2.00E-003
Zernike 4 = 1.00E-003
Zernike 5 = 5.00E-004
Zernike 6 = 1.00E-004
Zernike 7 = 2.00E-003
Zernike 8 = 1.00E-003
Zernike 9 = -5.00E-003
Zernike 10 = 1.00E-003
這些參數(shù)表示Zernike?項(xiàng)在整個(gè)表面上具有約?5?微米的?RMS?誤差,周期項(xiàng)振幅約為?0.5?微米,周期為?1?周期/毫米,或者說(shuō)在整個(gè)表面有?20?個(gè)周期。
在進(jìn)行公差分析之前,我們需要對(duì)公差參數(shù)進(jìn)行一些調(diào)整。首先,由于我們的用戶定義的中頻“us_zernike+msf.dll”曲面不是TEZI支持的曲面類型之一,所以必須刪除曲面1的操作數(shù),并將其替換為TPAR。
舉例來(lái)說(shuō),TPAR(1,9)指表面1的第9個(gè)參數(shù)(振幅擾動(dòng))。同理,TPAR(1,10)表示表面1的第10個(gè)參數(shù)(周期擾動(dòng))。TPAR(1,16)到TPAR(1,25)是中頻曲面的Zernike項(xiàng),如編輯器中所示,名義值為零或非常小,并且隨著蒙特卡羅分析的每次迭代而增加。
靈敏度分析表明,上述TPAR(1,9)是影響極嚴(yán)重的因素之一,說(shuō)明表面波紋狀不規(guī)則度的幅度越大,系統(tǒng)的性能下降越大。我們還可以看到基于平方根和的均方根光斑半徑預(yù)估值。
以RMS光斑半徑為標(biāo)準(zhǔn),優(yōu)化后焦長(zhǎng)度,蒙特卡羅循環(huán)1000次。
附件中提供的“MC_BEST.ZMX”和“MC_WORST.ZMX”可以用來(lái)檢查。
我們可能會(huì)碰到獲得性能較差結(jié)果的情況。所以,這要求我們的公差參數(shù)必須設(shè)置為合理的值,或者憑借經(jīng)驗(yàn)得出的更好的參數(shù)方案。制造商也可能提供類似零件的性能表現(xiàn)信息,或者幫助預(yù)測(cè)比較壞的結(jié)果,在確定設(shè)計(jì)方案前,這些信息是鏡頭設(shè)計(jì)過(guò)程中的關(guān)鍵。
參考資料
[1] Diamond turning an acrylic dome (YouTube)
[2] J. E. Harvey and A. Thompson, Proc. SPIE 2576
[3] R. N. Youngworth and B. D. Stone, Applied Optics 39(13)
[4] Paul Rudolph - USP721240
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